加快推进纳米压印光刻技术在光电制造领域的应用

两家市场领导者开展推广和技术合作，通过结合各自优势，提供纳米压印光刻技术开发工具包，并实现大批量生产

奥地利圣弗洛里安和东京2022年9月20日 /美通社/ -- 全球首屈一指的光掩模供应商Toppan Photomask Co. Ltd.与为MEMS、纳米技术和半导体市场提供晶圆键合及光刻设备的领先供应商EV Group（简称EVG）今天宣布，两家公司已达成协议，共同推广赋能光电产业的大批量制造(HVM)工艺—纳米压印光刻技术(NIL)。

此次合作结合NIL系统的领先供应商和开创者与半导体市场的光掩模领先供应商的优势，旨在确立NIL为光电制造的行业标准生产工艺，并加速其在HVM中实施，以支持各种应用。这些应用包括增强/混合/虚拟现实耳机、智能手机、汽车传感器和医疗成像系统。

作为此次非排他性合作的一部分，EVG和Toppan Photomask将结合各自的知识、专长和服务，利用Toppan Photomask提供的主模板和EVG提供的设备及工艺开发服务，提供NIL开发工具包，以进一步推广NIL技术并提高将该技术应用于工业生产的可能性。EVG还将在其位于奥地利总部的EVG NILPhotonics®能力中心，面向感兴趣的公司提供NIL技术和产品演示。此外，对于有意在生产过程中使用NIL技术的企业，两家公司都将对方指定为首选推荐的供应链合作伙伴。

Toppan Photomask Co. Ltd.首席技术官全灿旭(Chan-Uk Jeon)表示：“Toppan Photomask非常高兴能与EVG合作。EVG的NIL工具和加工能力是世界一流的，将提高光电技术和其他将采用NIL技术的新技术成本效益。Toppan Photomask认为，两家公司都具有显著的优势，在此推动下，NIL技术有着良好的发展前景，有望成为另一种成功的光刻解决方案。”

实现纳米压印光刻技术成为主流制造技术

在创建任意形状的精细图案（如超构透镜）的未来应用方面，传统的光刻技术已达到了极限。NIL是一种公认且具有成本效益的工艺，可在复杂的结构上生成纳米级分辨率的图案，因此是这些应用的可行替代方案。NIL可以非常有效地大面积复制这些复杂的结构，设计限制较少，且工艺流程非常精简，因此非常适用于原型设计和HVM。

20多年来，EVG一直是NIL技术领域的开创者，通过与光学材料（如粘合剂和抗蚀剂）、基板材料和印章生产供应商，以及光学元件和设备制造商等整个NIL供应链中的企业合作，为打造更加广泛的NIL生态系统做出贡献。EVG和Toppan Photomask分别是光刻和光掩模制造领域的知名行业领导者，两家公司通过合作，旨将NIL作为光电行业的主流HVM技术加以推广。

EV Group企业技术开发和知识产权总监Markus Wimplinger称：“我们很高兴与Toppan Photomask合作，将纳米压印光刻技术引入主流制造应用。作为以最高质量标准著称的领先半导体光掩模供应商，Toppan Photomask在使用满足全球最严格生产要求的标准化生产方法方面拥有丰富的经验。此次是纳米压印工艺设备和服务提供商与纳米压印母版生产商之间的首次合作，对行业来说是一次巨大的胜利，我们将通过合作，帮助我们的客户迅速扩大NIL应用，使之成为先进光学设备和元件的批量生产技术，帮助他们将新的‘虚拟’构思变为现实。”

即将举行的纳米压印行业活动

两家公司的专家将参加9月19日至23日在比利时鲁汶Gasthuisberg学术园区举行的Micro and Nano Engineering (MNE) Eurosensors 2022 Conference大会，并在会上对此次合作进行讨论。与会者可参观EVG的S8号展位，以获取更多信息。

此外，EVG的Christine Thanner将出席于10月5日在日本富山举行的纳米压印和纳米印刷技术(NNT)会议，并将在全体大会上发表题为 “纳米压印—从小众到大批量生产”的特邀演讲，届时她将阐述NIL母版制造技术、复制设备和工艺的匹配组合的重要性。

NILPhotonics能力中心：灵活的合作模式

EVG的NILPhotonics能力中心为整个NIL供应链中的客户和合作伙伴提供开放的创新孵化器，让他们可以通过合作，缩短创新光电设备和应用的开发周期及上市时间。该中心高度灵活，可满足客户的不同需求，同时确保为开发过程中的每个环节提供最高水平的IP保护。洁净室旨在满足最严格的客户要求，并实现虚拟生产线概念，即将晶圆重新引入客户的晶圆厂，以对其进行进一步加工。详情请访问：https://www.evgroup.com/products/process-services/nilphotonics-competence-center/。

全球首款室外测距最长可达20米，为传统产品5倍以上的CMOS图像传感器
有望在自动飞行无人机等工业领域作为图像传感器和相机实现广泛应用

东京2022年6月16日 /美通社/ -- 凸版印刷株式会社（总公司：东京都文京区，代表取缔役社长：麿秀晴，以下简称"凸版印刷"）与子公司株式会社Brookman Technology（总公司：静冈县滨松市，代表取缔役社长：青山聪，以下简称"Brookman Technology"）共同开发出一款采用"混合型（hybrid）ToF（光飞行时间）法"（※1）的"三维距离图像传感器（以下简称"3D传感器"）"。该款传感器可实现在1～30米范围内的距离测量，是目前主流的"间接ToF法"3D传感器测距范围的5倍以上。自动飞行无人机或自动运输机器人等通过配备传感器后，可避免与障碍物发生碰撞，有助于提升该类设备的可操作性和安全性。

此外，该款采用混合型ToF法的3D传感器还配备了独家的环境光噪声消除功能，是全球首款（※2）可在相当于盛夏白天光照强度达到10万勒克斯（lux）环境下，实现最长20米室外测距的CMOS图像传感器。

6月15日，在美国火奴鲁鲁召开的半导体技术国际会议"VLSI 国际研讨会(全称：2022 IEEE Symposium on VLSI Technology & Circuits）"（主办方：美国电气与电子工程师协会，会期：6月13日至17日）上，由凸版印刷、Brookman Technology 和静冈大学联合发表了该项新型ToF 传感器技术。

• 开发背景

近年来，随着智能手机和游戏机功能的增强、工业自动驾驶机器人等的普及，3D传感器市场有望进一步扩大。根据距离检测原理的不同，3D传感器存在几种测距方式，而通过测量光线照射到被摄体并返回传感器所需的时间来估算相机到被摄体距离的"ToF法"，则随着近年技术发展的进步，以其小型化和低功耗等的特点而最先被智能手机所采用。

自动驾驶的机器人和无人机需要配备"环境映射"功能，才能检测出几十米开外的障碍物并从捕获的图像中掌握自身所处的位置，而目前主流的"间接ToF法"3D传感器在户外使用时，由于其缺乏足够的"抗环境光"性能，因此阻碍了其进一步的普及应用。

凸版印刷将Brookman Technology纳为子公司后，灵活发挥两家公司的优势，全面推动新型3D传感器的研发工作。通过改进Brookman Technology专长的"短脉冲驱动方式"（※3），成功研发出了全新的混合型ToF技术，不但具备远距离测量和优异的抗环境光性能，还实现了高速图像捕获和多台同时驱动的功能。

• 本次开发的新型ToF传感器的关键特性

1. 可实现30m远距离测量

通过采用混合型ToF驱动方式，可实现长达30米的远距离测量，约为现有机型的5倍。

2. 配备环境光噪声消除功能，可在盛夏的室外进行测量

传感器的每个像素都配备了消除环境光成分的功能。因此，该传感器可以消除环境光噪声，即使是在盛夏白天光照强度达到10万勒克斯的环境下，也能够准确测量距离。

3. 每秒120张的高速图像捕获功能

通过在一帧内完成测距与消除环境光噪声，确保不会发生成像模糊而导致"测量误差"，实现精准测距。因此，1秒内最多可以捕获120张距离图像，大约是传统机型的四倍多。

4. 最多可同时驱动256台相机

采用独家控制方式，可以像消除环境光一样消除其他相机所发出的信号光。因此，可以同时驱动多台相机而不产生干扰，最多可以同时驱动256台相机。

• 今后的目标

凸版印刷与Brookman Technology今后将致力于在自动驾驶机器人和工业设备等领域普及新型ToF传感器，给此类设备安装上这双可提升性能的全新"眼睛"，为实现更安全、更便捷的社会做出贡献。目前，凸版印刷正在研发相应的相机以搭载采用新型ToF法的距离传感器，并计划于2022年12月开始提供评估机型，在2023年秋季正式上市销售。

凸版印刷预计在2025年度内，实现包括新型ToF传感器及搭载该类传感器的相机、以及相关周边订单在内的销售额约70亿日元的目标。

关于Brookman Technology

Brookman Technology（原株式会社Brookman Lab）是由静冈大学电子工学研究所的川人祥二教授基于在文部科学省"滨松地区智慧集群创业"项目中的研究成果，将民营企业的经营管理经验与产品商业化技术相结合，于2006年2月成立的一家公司。此后，参与了多项CMOS集成电路、图像传感器、ToF传感器的研发和设计工作。2021年3月，凸版印刷收购该公司94.6%的股份，将其纳为旗下子公司。

关于凸版印刷

凸版印刷是一家在印刷、通信、安防、包装、装饰材料、电子和数字转型领域提供综合解决方案的全球领先供应商。我们的全球团队拥有超过50,000名员工，为各个行业的客户提供由行业领先的专业知识和技术结合的最佳解决方案，以应对企业和社会在当今瞬息万变的市场中所面临的各种挑战。

欲了解更多，请访问我们的中文网页https://www.toppan.com/zh/，或在领英上关注凸版印刷https://www.linkedin.com/company/toppan/。

※1 "混合型ToF法"是指通过静冈大学川人祥二教授提出的ToF测量法，在采用相位差测距的"间接ToF法"的基础上，结合了用时间差测距的"直接ToF法"的功能而产生的一项新型传感技术。由于此项技术通过组合多个短时间窗口，即所谓的"多时间窗口技术"，来估算光的往返时间，因此与传统的间接ToF法相比，具有在室外测距时不容易受到环境光噪声影响的特性。

※2 作为不使用雪崩光电二极管而是采用传统CMOS图像传感器像素结构的ToF传感器，基于本公司针对现有技术论文及现有产品目录调查得出的结果（截至2022年6月）。

※3 "短脉冲驱动方式"是指与持续发射连续波激光的"连续波法"不同，通过照射时间宽度极短的脉冲激光来进行测距的驱动方式。

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